廠商：中國電子科技集團
型號：Peva-600I
技術指標：
1.可加工橫向尺寸4英寸及以下的wafer；
2.一次加工2-6片wafer（視wafer尺寸大?。?，
3.由于鍍液是酸性的，樣品需要耐酸性溶液，鍍100微米需要4小時左右。
工藝特點：
設備簡單、花費低、屬低溫工藝。
